电离层薄层

vzeucvprjfe · Wysłany: Czw 0:33, 31 Mar 2011

电离层薄层倾斜带来的电离层附加时延偏差分析
(O，)一。·(一)‘9<40>40其中，(e，)表示地面经纬度，。为电离层开始倾斜的纬度值，根据经验取‰一40。；a、a：、a。、a为模型参数．利用同样的IRI模拟数据，利用公式(3)和公式(4)，模拟了将斜向变换到垂直后与用IRI计算所得的值相减所得的误差统计分布如图6所示，可见绝大部分误差绝对值都小于0．5米，而方差为0．18米．比较可知，图6给出了同一数据情况下不考虑电离层倾斜时的误差，从中可见，其误差是图5中误差的3倍(方差为0．59米)，说明了考虑电离层倾斜的必要性．JL一圈6考虑电膏层倾斜时误差分布3结论通过本文的分析和模拟研究，可以得出以下结论：(1)考虑电离层等效薄层倾斜时，等效高度的变化带来的影响不会导致网格修正法的修正精度的明显降低，不是影响修正精度的主要因素；(2)同一数据情况下不考虑电离层薄层倾斜时的误差，是考虑电离层薄层倾斜时误差的3倍，由此可见，考虑电离层等效薄层倾斜导致倾角的变化给电离层附加时延修正带来的影响是十分必要的．[
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